從電磁幹擾到真空相容性：光刻機中花崗岩底座的不可替代性。

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在半導體製造領域，作為決定晶片製造製程精度的核心設備，光刻機內部環境的穩定性至關重要。從極紫外光源的激發到奈米級精密運動平台的運行，每個環節都容不得絲毫偏差。花崗岩底座憑藉其一系列獨特的性能，在確保光刻機穩定運作和提升光刻精度方面展現出無可比擬的優勢。
出色的電磁屏蔽性能
光刻機的內部充滿了複雜的電磁環境。諸如極紫外光源、驅動馬達和高頻電源等組件所產生的電磁幹擾（EMI）若無法有效控制，將嚴重影響設備內部精密電子元件和光學系統的性能。例如，幹擾可能導致光刻圖案出現輕微偏差。在先進製造製程中，這種偏差足以導致晶片上電晶體連接錯誤，從而顯著降低晶片良率。
花崗岩是一種非金屬材料，本身不導電。它不像金屬材料那樣，內部自由電子的運動不會產生電磁感應現象。這項特性使其成為天然的電磁屏蔽體，能夠有效阻擋內部電磁幹擾的傳播路徑。當外部電磁幹擾源產生的交變磁場傳播到花崗岩基座時，由於花崗岩不具磁性且無法被磁化，交變磁場難以穿透，從而保護安裝在基座上的光刻機核心部件，例如精密感測器和光學鏡頭調節裝置，免受電磁幹擾的影響，並確保光刻過程中圖案轉移的精度。

優異的真空相容性
由於極紫外光（EUV）極易被包括空氣在內的所有物質吸收，因此EUV微影機必須在真空環境下運作。此時，設備組件與真空環境的兼容性就顯得格外重要。在真空中，材料可能會溶解、解吸並釋放氣體。釋放的氣體不僅會吸收EUV光，降低光的強度和透射效率，還可能污染光學透鏡。例如，水蒸氣會氧化透鏡，碳氫化合物會在透鏡上沉積碳層，嚴重影響微影品質。
花崗岩具有穩定的化學性質，在真空環境下幾乎不釋放氣體。專業測試表明，在模擬光刻機真空環境（例如主腔內照明光學系統和成像光學系統所在的超潔淨真空環境，要求H₂O < 10⁻⁵ Pa，CₓHᵧ < 10⁻⁷ Pa）下，花崗岩基座的脫氣率極低，遠低於金屬等其他材料。這使得光刻機內部能夠長時間保持高真空度和潔淨度，保證了極紫外光傳輸過程中的高透過率，並為光學鏡頭提供了超潔淨的使用環境，延長了光學系統的使用壽命，從而提升了光刻機的整體性能。
較強的抗振性和熱穩定性
在光刻製程中，奈米級的精度要求光刻機不能有絲毫振動或熱變形。車間內其他設備運作和人員移動產生的環境振動，以及光刻機本身運作產生的熱量，都可能幹擾光刻精度。花崗岩密度高、質地堅硬，具有優異的抗振性能。其內部礦物晶體結構緻密，能有效衰減振動能量，快速抑制振動傳播。實驗數據表明，在相同的振動源下，花崗岩底座可在0.5秒內將振動幅度降低90%以上。與金屬底座相比，花崗岩底座能更快地使設備恢復穩定，確保光刻鏡頭與晶圓之間的精確相對位置，避免振動造成的圖案模糊或錯位。
同時，花崗岩的熱膨脹係數極低，約 (4-8) ×10⁻⁶/℃，遠低於金屬材料。在光刻機運作過程中，即使內部溫度因光源發熱、機械部件摩擦等因素而波動，花崗岩底座也能保持尺寸穩定性，不會因熱脹冷縮而顯著變形。它為光學系統和精密運動平台提供了穩定可靠的支撐，從而保證了光刻精度的一致性。