花崗岩底座的單軸氣浮超精密運動模組的應用領域。

半導體製造：在晶片製造過程中，光刻製程需要將電路圖案精密地轉移到晶圓上。單軸氣浮超精密運動模組的花崗岩底座可以為光刻設備中的晶圓檯面提供高精度定位和穩定的支撐。例如，ASML等國際知名光刻機廠商在其高階設備中均採用花崗岩底座氣浮運動模組，可將晶圓的定位精度控制在奈米等級，確保光刻圖案的精度，進而提高晶片的整合度和性能。
精密測量領域：座標測量機（CMM）是工業生產中常用的精密測量設備，用於測量工件的尺寸、形狀和位置精度。花崗岩基座上的單軸氣浮超精密運動模組可作為座標測量機的運動平台，實現高精度直線運動，並為測量測頭提供穩定的運動軌跡。例如，海克斯康的高階座標測量機就採用此組合對大型複雜零件進行測量，測量精度可達微米級，為汽車、航太等產業的零件品質控制提供有力保障。
航空航太領域：在航空航太零件的加工和檢測中，對精度要求較高。例如，航空發動機葉片的加工需要精確控製刀具的運動軌跡，確保葉片的輪廓精度。單軸氣浮超精密運動模組的花崗岩底座可應用於五軸加工中心等設備，為刀具提供高精度的運動控制，確保葉片的加工精度達到設計要求。同時，在航空發動機的組裝過程中，也需要採用高精度的測量設備對零件的組裝精度進行檢測。花崗岩底座的氣浮運動模組可以為測量設備提供穩定的支撐和精確的運動，並確保組裝品質。
光學檢測領域：在光學元件的製造與檢測過程中，需要對光學元件進行高精度的定位與測量。例如，在製造反射鏡、透鏡等高精度光學元件時，需要利用乾涉儀等設備來偵測其面形精度。單軸氣浮超精密運動模組的花崗岩基座可作為干涉儀的運動平台，實現亞微米級的定位精度，為光學元件的偵測提供精確的資料支援。此外，在雷射加工設備中，也需要採用高精度的運動平台來控制雷射光束的掃描軌跡，氣浮超精密運動模組的花崗岩基座可以滿足這項要求，實現高精度的雷射加工。